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다공성 실리콘을 포함하는 실리콘 적층구조 제조방법 및 제조장치

본 기술은 다공성 실리콘을 포함하는 적층구조 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로 반도체 소자 개발 기술에 적용 가능

특허 출원/등록 번호

  • 출원번호 : 10-2023-0109193
  • 등록번호 : 10-2716074

대표도

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기술 동향

  • 실리콘 웨이퍼 기반에 대한 투자를 늘리고 있으며, 파운드리 업체들은 실리콘 대신 2차원 재료를 사용하여 모놀리식 3D 집적회로를 개발하는 채널로 사용하는 등 기술을 사용하여 트랜지스터 밀도를 향상시키기 위한 연구를 진행하고 있음. TSMC의 칩--웨이퍼--서브스트레이트(Chip-on-Wafer-on-Substrate) 기술은 패키지 내에 8개의 HBM 메모리 장비와 결합된 두 개의 거대한 프로세서를 위한 공간을 갖춘 세계 최대 규모의 실리콘 인터포저를 개발

특장점

  • 다공성 실리콘 성장 중 공극률을 조절하여 다양한 구성의 다공성 실리콘을 형성할 수 있는 효과가 있음

    또한 다공성 실리콘의 성장 중 공극률을 변화시키는 방법으로 박막의 표면층, 중간층 또는 바닥층 등 원하는 위치에 다공성 실리콘을 성장시키고 공극의 분포와 밀도를 조절할 수 있는 효과가 있음

기술의 완성도

  • TRL1
  • TRL2
  • TRL3
  • TRL4
    실험실 규모의 소재/부품/시스템 핵심성능 평가
  • TRL5
  • TRL6
  • TRL7
  • TRL8
  • TRL9

가능한 사업화 형태

  • 기술이전 또는 실시권 설정
키워드
담당자
  • 기술사업화팀
  • 043-261-3873